创新改良型胶体磨

上海SGN,独特创意,融化理念。将SGN高剪切胶体磨进行进一步的改良,在原来GM2000系列的基础上,将单一的胶体磨磨头模块,改良成两级模块,加入了一级分散盘(均质盘、乳化盘)。从而形成改良型的胶体磨,先研磨后分散(均质、乳化),将物料的处理一步到底的完成,我们将这种改良的胶体磨也称为研磨分散机、研磨均质机、研

  • 产品单价: 面议
  • 品牌:

    SGN/思峻

  • 产地:

    上海

  • 产品类别:胶体磨
  • 有效期:

    长期有效

  • 发布时间:

    2020-09-16 09:56

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  • 产品详情

产品参数

品牌:

SGN/思峻

所在地:

上海

起订:

未填

供货总量:

未填

有效期至:

长期有效

详情介绍

 上海SGN,独特创意,融化理念。将SGN高剪切胶体磨进行进一步的改良,在原来GM2000系列的基础上,将单一的胶体磨磨头模块,改良成两级模块,加入了一级分散盘(均质盘、乳化盘)。从而形成改良型的胶体磨,先研磨后分散(均质、乳化),将物料的处理一步到底的完成,我们将这种改良的胶体磨也称为“研磨分散机”、“研磨均质机”、“研磨乳化机”。
改良型胶体磨,创新胶体磨,研磨分散胶体磨,研磨分散机,改进型胶体磨这种独特的设计,放眼世界,独上海SGN一家,欢迎来电咨询

(价格电议,孙经理 1—7—7—1—7—0—1—4—6—6—9)


                          
SGN改进型胶体磨,研磨分散机,简单的来讲就是将高剪切胶体磨和高剪切分散机,合二为一了。同时具备胶体磨和分散机的功能,并且减少了胶体磨和分散机串连后的,时间差因素。从成本上来讲,原先两台设备的价格,现在用一台研磨分散机就可以完成,性价比更高。

GMD2000系列改良型胶体磨,研磨分散设备是SGN(上海)公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装,我们将三级变更为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择)

GMD2000系列改良型胶体磨,研磨分散机的结构:研磨式分散机是由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品。

 

级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。

 


        
GMD2000系列改良型胶体磨,研磨分散机的特点:

 

①   线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨

 

②   定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

 

③   定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

 

④   在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

 

⑤   高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

 

 

GMD2000系列改进型胶体磨设备选型表:

 

研磨分散机

 

流量*

 

输出

 

线速度

 

功率

 

入口/出口连接

 

类型

 

l/h

 

rpm

 

m/s

 

kW

 

 

GMD 2000/4

 

300

 

9,000

 

23

 

2.2

 

DN25/DN15

 

GMD 2000/5

 

1000

 

6,000

 

23

 

7.5

 

DN40/DN32

 

GMD 2000/10

 

3000

 

4,200

 

23

 

22

 

DN80/DN65

 

GMD 2000/20

 

8000

 

2,850

 

23

 

37

 

DN80/DN65

 

GMD 2000/30

 

20000

 

1,420

 

23

 

55

 

DN150/DN125

 

GMD2000/50

 

60000

 

1,100

 

23

 

110

 

DN200/DN150

 

*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到允许量的10%。

 

改进型胶体磨,研磨分散机,研磨均质机,研磨乳化机,全新的设计理念,超高设备剪切力,以及稳定的设备运行,SGN为广大企业提供优质的设备服务!

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